搜索

万博手机网页怎么登陆
介质膜

类别:行业新闻   发布时间:2019-09-10 15:27   浏览:

介质薄膜是在混合集成电路中,除SiO, SiO2, BaTiO3‑、Y2O3、Si3N4 ,钽基介质薄膜以外的其它介质薄膜。Al,Hf、Nb、Zr等金属的阳极氧化介质薄膜,辉光放电制成的聚合物介质薄膜以及氮化铝薄膜等。阳极氧化物的介电常数如下:Al203 10,HfO2 45,Nb2O5 41,WO3 42。在薄膜电路中,使用的A1、Nb、Zr等金属薄膜,是在电解液中用阳极氧化形成。薄膜的厚度取决于外加电压。每伏电压形成的介质厚度称为阳极化常数。铝的为1. 36nm/V。