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PECVD型原子层薄膜沉积系统

类别:磁控镀膜设备   发布时间:2019-07-19 13:33   浏览:


应用范围:
  • 柔性材料表面采用PECVD原子层低温沉积阻隔膜增透膜

基本参数:
  • 不锈钢炉体,前开门结构
  • 炉腔尺寸: 300 mm宽X300mm高×500mm长,内部有效使用空间:250(宽)×250(高)×350(长)
  • 工作真空:大气至2×10-3Pa<35分钟
  • 极限真空度:4×10-4Pa(空载加温200度3小时后)
  • 2组流量计充气系统, 2组针阀充气系统
  • 四组源储存罐,加热温度50-100°
  • 一套柔性材料收放卷系统
  • 一组加热烘烤控温系统,最高烘烤温度200℃,100-200℃温度可调可控。温度均与性:±2.5℃(110℃)
  • 一套射频PECVD等离子低温原子层沉积
  • 控制方式:手动/自动一体化,触摸屏+PLC